答:離子束輔助沉積可以在真空蒸鍍的同時用一定能量、種類、流強的離子束轟擊正在生長的表面而形成所需要的厚度和光學特性的薄膜。主要的優點有:a.膜層和基底界面形成連續的混合,提高附著力。b.鍍膜的密度與整塊材料的基本相同。c.鍍膜的速率高d.鍍膜的膜層縝密性好,孔洞減少,晶粒均勻細小,可提高抗腐蝕性能。e.工藝參數易于控制鍍膜機離子源圖片
2018-04-04
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